[15p-4F-1~25] 6.2 カーボン系薄膜

[15p-4F-22] ナノホールレジストマスクを用いたNVセンタ配列の作製

〇(M1)東又 格¹、小池 悟大¹、寺地 徳之²、小野田 忍³、稲葉 優文¹、Priyadharshini Balasubramanian⁴、Boris Naydenov⁴、Fedor Jelezko⁴、大島 武³、品田 高宏⁵、川原田 洋¹、磯谷 順一⁶、谷井 孝至¹ (1.早大理工、2.物材機構、3.原子力機構、4.ウルム大、5.東北大、6.筑波大)

キーワード：NVセンタ、ナノホールレジストマスク