[15p-PB2-1~53] 8 プラズマエレクトロニクス（ポスター）

[15p-PB2-27] 反応性蒸着における雰囲気ガスの流束方向による影響

〇(M1)仲尾 昌浩¹、井上 泰志¹、高井 治² (1.千葉工大工、2.関東学院大)

キーワード：反応性蒸着、斜め堆積、離散的ナノ柱状構造

反応性蒸着プロセスにおいて，基板を原料流束に対して垂直に設置した状態であっても，斜め堆積と同様の離散的ナノ柱状構造を形成可能な条件を模索するため，堆積過程をコンピュータシミュレーションすることを目的とする．成膜圧力を高くし平均散乱回数が多ければ，入射角度分布が高角度側にシフトするため，高角度の原子を選別することで擬似的な斜め堆積が行える可能性があることがわかった．