[16a-2Q-10~13] 8.3 deposition of thin film and surface treatment

[16a-2Q-13] Preparation of Er₂O₃/TiO₂ Dielectric Multilayer Film by Sputtering Method

〇Tamiko Ooshima¹, Sousuke Yamada¹, Hiroharu Kawasaki¹, Yoshihito Yagyu¹, Takeshi Ihara¹, Yoshiaki Suda¹ (1.Natl. Inst. Tech. Sasebo Col.)

Keywords:sputtering,dielectric multilayer film

特定波長の光を透過するバンドパスフィルター(BPF)機能を有する誘電体BPF薄膜の作製を目的とし，高屈折率材料に酸化チタン(TiO₂)，低屈折率材料に酸化エルビウム(Er₂O₃)を用いて[Er₂O₃/TiO₂]⁶/[Er₂O₃]²/[TiO₂/Er₂O₃]⁶構造を持つ誘電体多層膜をスパッタリング法により作製した．本研究では，中心透過波長による膜厚設計，薄膜作製条件の最適化，および光学的特性について検討を行った．