2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

[16a-4C-1~11] 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2015年9月16日(水) 09:00 〜 12:00 4C (432)

座長:東脇 正高(NICT)

10:45 〜 11:00

[16a-4C-7] GaN基板上縦型p-n接合ダイオードにおけるメササイズの検討

〇金澤 翔1、太田 博1、金田 直樹2、堀切 文正3、成田 好伸3、吉田 丈洋3、三島 友義1、中村 徹1 (1.法政大、2.クオンタムスプレッド、3.サイオクス)

キーワード:ダイオード、メサ、GaN

自立GaN基板上メサ構造縦型p-n接合ダイオードの高性能化の基礎検討として電流の横方向拡がりなどの知見を得るため、p型電極端からメサ端までの距離に対するオン抵抗の変化を評価したので報告する。