[16a-PA2-1~60] 17 ナノカーボン（ポスター）

[16a-PA2-15] 熱CVD中の電流印加による多層グラフェンの膜質改善

〇市川 博康¹、内田 昂紀¹、上野 和良^1,2 (1.芝浦工大、2.SITグリーンイノベーション研究センター)

キーワード：CVD

多層グラフェン（MLG）は銅（Cu）に代わる配線材料として期待されている。大面積のMLG膜を形成する方法として、化学気相成長法（chemical vapor deposition : CVD）が期待されているが、配線応用のためには低温で結晶性の良い膜を形成することが課題である。我々は熱CVD中に電流を印加する電流印加CVDでグラフェンの結晶性が向上することを報告した。今回は、電流印加の作用を調べる一環として、電流がCVD中のグラフェンと触媒金属に与える影響について報告する。