[16p-2Q-1~13] 8.3 deposition of thin film and surface treatment

[16p-2Q-8] Effects of H2 dilution on Incorporation Amount of Clusters in A-Si:H Films Deposited by Multi-Hollow Discharge Plasma CVD

〇Susumu Toko¹, Yoshihiro Torigoe¹, Kimitaka Keya¹, Hyunwoong Seo¹, Naho Itagaki¹, Kazunori Koga¹, Masaharu Shiratani¹ (1.Kyushu University)

Keywords:CVD,solar cell,hydrogen dilution

高効率水素化アモルファスシリコン(a-Si:H)太陽電池の作製のための最重要課題は、光劣化の抑制である。近年筆者らは光劣化の原因であるナノ粒子(クラスター)の膜中への混入を抑制するマルチホロー放電プラズマCVD法を開発した。本研究では、マルチホロー放電プラズマCVD装置で水素希釈が膜中クラスター混入量に及ぼす影響について調べた。