2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[16p-4E-1~11] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2015年9月16日(水) 13:45 〜 16:45 4E (437)

座長:山口 徹(NTT),岡田 真(兵庫県立大),柳下 崇(首都大)

16:15 〜 16:30

[16p-4E-10] ダブルナノインプリントグラフォエピタキシーによる液晶分子の局所配向

〇岡田 真1、谷口 雄亮2、春山 雄一1、小野 浩司3、川月 喜弘2、松井 真二1 (1.兵県大高度研、2.兵県大工、3.長岡技科大)

キーワード:ナノインプリント、液晶

光反応性高分子液晶に対してダブルナノインプリントグラフォエピタキシーを行うことで、単純なラインアンドスペースパターン内に局所的な分子配向を誘起させた。