[16p-4E-1~11] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[16p-4E-3] 屈折率分布型レンズアレイを用いた走査投影露光の解像度と均一性低下原因の検討

〇佐藤 貴紀¹、堀内 敏行¹ (1.電機大院工)

キーワード：大領域、走査、レンズアレイ