2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[16p-4E-1~11] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2015年9月16日(水) 13:45 〜 16:45 4E (437)

座長:山口 徹(NTT),岡田 真(兵庫県立大),柳下 崇(首都大)

15:00 〜 15:15

[16p-4E-6] ビルトインレンズマスクリソグラフィによる3 次元露光の検討Ⅲ

〇田中 利樹1、笹子 勝1、菊田 久雄1、川田 博昭1、平井 義彦1 (1.大阪府大 院 工)

キーワード:フォトリソグラフィ、三次元加工、複素振幅

多重焦点機能を持つビルトインレンズマスクについて、複数の焦点位置に対する複素振幅を、相互干渉を緩和するために位相補正を講じて重畳させ、3次元像を得るフォトリソグラフィについて、その効果をコンピュテーショナル・リソグラフィにより検証した。