[11p-B2-1~11] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2015年3月11日(水) 13:15 〜 16:30 B2 (6B-102)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
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13:15 〜 13:45

[11p-B2-1] [ビーム応用分科内招待講演] 易液化ガスPFPを用いたナノインプリント

〇廣島洋¹ (1.産総研)

13:45 〜 14:00

[11p-B2-2] ラジカル重合型光硬化樹脂薄膜の表面弾性率のナノ不均一性

〇(B)矢野春菜¹、久保祥一¹、中川勝¹、梁暁斌²、藤波想²、中嶋健² (1.東北大多元研, 2.東北大WPI-AIMR)

14:00 〜 14:15

[11p-B2-3] 誘導自己組織化リソグラフィへ向けたPS-b-PMMAのミクロ相分離構造の高速形成挙動

〇廣芝伸哉¹、大窪諒¹、服部梓²、田中秀和²、中川勝¹ (1.東北大多元研, 2.阪大産研)

14:15 〜 14:30

[11p-B2-4] 熱アニール法によるポリスチレンとポリジメチルシロキサンからなるブロック共重合体のランダム配向面内シリンダ構造の形成(2)

〇山口徹¹、藤原聡¹ (1.NTT物性基礎研)

休憩 (14:30 〜 14:45)

14:45 〜 15:00

[11p-B2-5] ナノインプリントにおける離型力のモールド側壁傾斜角依存性Ⅰ

植村公亮¹、藤井一緒¹、ミカロフスキマーチン²、〇(M1C)栩野貴充¹、中村直人¹、川田博昭¹、リムザジグムント²、平井義彦¹ (1.大阪府大院工, 2.ワルシャワ工科大)

15:00 〜 15:15

△ [11p-B2-6] ナノインプリントにおける離型力のモールド側壁傾斜角依存性Ⅱ

〇(M1C)栩野貴充¹、藤井一緒¹、ミカロフスキマーチン²、植村公亮¹、川田博昭¹、リムザジグムント²、平井義彦¹ (1.大府大院工, 2.ワルシャワ工科大)

15:15 〜 15:30

[11p-B2-7] 連続ＵＶナノインプリントにおける離型層の耐久性の検討

〇伊吉就三¹、岡田真¹、春山雄一¹、松井真二¹ (1.兵庫県立大学　高度産業科学技術研究所)

15:30 〜 15:45

[11p-B2-8] 液晶高分子へのナノインプリントグラフォエピタキシー

〇岡田真¹、細田理沙²、谷口雄亮²、春山雄一¹、小野浩司³、川月喜弘²、松井真二¹ (1.兵県大高度研, 2.兵県大工, 3.長岡技科大)

15:45 〜 16:00

[11p-B2-9] 光ナノインプリント成形体の残膜厚均一化に向けたスクリーン印刷法による光硬化性組成物の吐出量制御

〇(M1)田辺明¹、上原卓也¹、永瀬和郎²、池戸裕明²、廣芝伸哉¹、中川勝¹ (1.東北大多元研, 2.ミノグループ)

16:00 〜 16:15

[11p-B2-10] sub-20 nmの孔径を有する炭素被覆モールドを用いた光硬化性組成物の充填に関する研究

〇中川勝¹、中谷顕史¹、干川康人¹、京谷隆¹ (1.東北大多元研)

16:15 〜 16:30

[11p-B2-11] 光ナノインプリント-原子層堆積法によるナノ造形 (II) ～ALD装置の構築と樹脂表面への成膜検討～

〇(B)畔柳志帆¹、廣芝伸哉¹、中川勝¹ (1.東北大多元研)

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