13:15 〜 13:30
〇野本 淳一1、牧野 久雄1、山本 哲也1 (1.高知工科大総研)
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セッション情報
一般セッション(口頭講演)
合同セッションＫ ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス » 合同セッションＫ ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス
[11p-D1-1~17] 合同セッションＫ ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス
2015年3月11日(水) 13:15 〜 17:45 D1 (16-101)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:30 〜 13:45
〇松田 慎平1、菊地 彫1、山根 靖正1、岡崎 豊1、山﨑 舜平1 (1.半エネ研)
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13:45 〜 14:00
〇中野 慎太郎1、前田 雄也1、大黒 達也2、百瀬 寿代2、諸岡 哲2、神例 信貴3、鈴木 幸治4 (1.（株）東芝 研究開発センター, 2.（株）東芝 セミコンダクター＆ストレージ社, 3.（株）東芝 生産技術センター, 4.東芝リサーチコンサルティング（株）)
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14:00 〜 14:15
〇(M1C)陳 東京1、森本 貴明1, 2、福田 伸子3、大木 義路1, 4 (1.早大先進理工, 2.学振DC2, 3.産総研 FLEC, 4.早大材研)
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14:15 〜 14:30
〇(PC)鄭 恵貞1、小倉 晋太郎1、吉田 学1、牛島 洋史1、福田 伸子1、植村 聖1 (1.産総研)
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14:30 〜 14:45
〇小笹 健仁1、鄭 恵貞1、植村 聖1、吉田 学1、星野 聡1 (1.産総研FLEC)
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14:45 〜 15:00
〇長田 至弘1、石河 泰明1、藤井 茉美1、浦岡 行治1 (1.奈良先端大)
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15:00 〜 15:15
〇(DC)浦川 哲1、石河 泰明1、長田 至弘1、藤井 茉実1、堀田 昌宏1、浦岡 行治1 (1.奈良先端大)
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休憩 (15:15 〜 15:30)
15:30 〜 15:45
〇(M1C)竹之内 良太1、戸田 達也1、石井 林太郎3、高橋 広己3、王 大鵬1, 2、古田 守1, 2 (1.高知工大, 2.総研, 3.三井金属鉱業株式会社)
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15:45 〜 16:00
〇川上 祐貴1、大東 隆文1、尾形 健一1、前元 利彦1、佐々 誠彦1 (1.大工大ナノ材研センタ)
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16:00 〜 16:15
〇(M1)池谷 謙1、小池 一歩1、広藤 裕一1、前元 利彦1、佐々 誠彦1、矢野 満明1 (1.大阪工大ナノ材研センタ)
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16:15 〜 16:30
〇(P)木津 たきお1、宮永 美紀2、粟田 英章2、生田目 俊秀1、塚越 一仁1 (1.物材機構, 2.住友電気工業)
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16:30 〜 16:45
〇三苫 伸彦1、相川 慎也1、欧阳 威1、高 旭1、木津 たきお1、林 孟芳1、藤原 明比古2、生田目 俊秀1、塚越 一仁1 (1.物材機構 WPI-MANA, 2.SPring-8)
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16:45 〜 17:00
〇大久保 裕夫1、磯部 辰徳1、新井 真1、清田 淳也1、齋藤 一也1 (1.アルバック)
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17:00 〜 17:15
〇門 圭佑1、山内 祥光1、鍋坂 恭平1、藤井 茉美1、石河 泰明1、浦岡 行治1 (1.奈良先端大)
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17:15 〜 17:30
〇(M2)Chaiyanan Kulchaisit1, Haruka Yamazaki1, Juan Paolo Bermundo1, Mami Fujii1, Masahiro Horita1, Yasuaki Ishikawa1, Yukiharu Uraoka1 (1.Nara Inst. of Sci. and Tech.)
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17:30 〜 17:45
〇(D)Juan Paolo Bermundo1, Yasuaki Ishikawa1, Mami Fujii1, Michiel van der Zwan2, Hiroshi Ikenoue3, Ryoichi Ishihara2, Toshiaki Nonaka4, Yukiharu Uraoka1 (1.Nara Inst. of Sci. and Tech., 2.Delft Univ. of Tech., 3.Kyushu Univ., 4.AZ Elect. Mat.)
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