特別シンポジウム

特別シンポジウム » フォノンエンジニアリング：ナノスケール熱制御のための新しい材料科学、理論・シミュレーション、計測技術、およびこれによるデバイス革新

[14a-B2-1~15] フォノンエンジニアリング：ナノスケール熱制御のための新しい材料科学、理論・シミュレーション、計測技術、およびこれによるデバイス革新

2015年3月14日(土) 08:45 〜 15:00 B2 (6B-102)

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08:45 〜 08:55

[14a-B2-1] はじめに

○粟野祐二¹ (1.慶大理工　　)

08:55 〜 09:20

[14a-B2-2] ナノ構造や界面によるフォノン輸送制御

○塩見淳一郎^1,² (1.東大工, 2.JSTさきがけ　　)

09:20 〜 09:45

[14a-B2-3] 最低熱伝導率の観点に基づく低熱伝導率材料の候補物質

○桂ゆかり¹、高木英典^1,²、押山淳¹ (1.東大工, 2.MPI 固体研　　)

09:45 〜 10:10

[14a-B2-4] フォノンの波動性を利用した熱伝導制御

○野村政宏^1,² (1.東大生研, 2.東大ナノ量子機構　　)

10:10 〜 10:35

[14a-B2-5] 摂動分子動力学法による複雑結晶構造酸化物の格子熱伝導の数値解析

○吉矢真人^1,²、藤井進¹、宮内洋平¹、多田昌浩¹、柳樂知也¹、安田秀幸^1,³ (1.大阪大工, 2.ファインセラミックスセンター, 3.京都大工)

10:35 〜 11:00

[14a-B2-6] ポーラス Si 薄膜の熱伝導

○宮崎康次¹ (1.九州工大工　　)

11:00 〜 11:25

[14a-B2-7] パルス光加熱サーモリフレクタンス法でみる薄膜および界面での熱伝導

○八木貴志¹、竹歳尚之¹、馬場哲也¹ (1.産総研　　)

11:25 〜 11:50

[14a-B2-8] 材料の観点から、熱電材料

○森孝雄^1,² (1.物材機構, 2.筑波大学　　)

11:50 〜 12:15

[14a-B2-9] NEMS技術とフォノンエンジニアリング

○水田博^1,²、Manoharan Muruganathan¹、小矢野幹夫¹、土屋良重² (1.北陸先端大, 2サザンプトン大)

12:15 〜 13:00

[14a-B2-9.1] 昼食

13:00 〜 13:10

[14a-B2-10] ナノスケール熱制御によるデバイス革新

○馬場　寿夫¹ (1.JST-CRDS　　)

13:10 〜 13:35

[14a-B2-11] 抵抗変化メモリ ReRAM におけるナノスケール熱制御

○秋永広幸¹、島久¹ (1.産総研　　)

13:35 〜 14:00

[14a-B2-12] 表面プラズモンを利用した熱アシスト磁気記録

○中川活二¹、芦澤好人¹、塚本新¹ (1.日大理工　　)

14:00 〜 14:25

[14a-B2-13] 熱配慮設計によるデバイス高性能化・高機能化戦略

○内田建^1,²、高橋綱己^1,² (1.慶大理工, 2.JST-CREST　　)

14:25 〜 14:50

[14a-B2-14] フォノンエンジニアリングの電子機器実装への応用

○畠山友行¹、石塚勝¹ (1.富山県立大工　　)

14:50 〜 15:00

[14a-B2-15] まとめ

○丸山茂夫¹ (1.東大工　　)

セッション情報

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[14a-B2-1] はじめに

[14a-B2-2] ナノ構造や界面によるフォノン輸送制御

[14a-B2-3] 最低熱伝導率の観点に基づく低熱伝導率材料の候補物質

[14a-B2-4] フォノンの波動性を利用した熱伝導制御

[14a-B2-5] 摂動分子動力学法による複雑結晶構造酸化物の格子熱伝導の数値解析

[14a-B2-6] ポーラス Si 薄膜の熱伝導

[14a-B2-7] パルス光加熱サーモリフレクタンス法でみる薄膜および界面での熱伝導

[14a-B2-8] 材料の観点から、熱電材料

[14a-B2-9] NEMS技術とフォノンエンジニアリング

[14a-B2-9.1] 昼食

[14a-B2-10] ナノスケール熱制御によるデバイス革新

[14a-B2-11] 抵抗変化メモリ ReRAM におけるナノスケール熱制御

[14a-B2-12] 表面プラズモンを利用した熱アシスト磁気記録

[14a-B2-13] 熱配慮設計によるデバイス高性能化・高機能化戦略

[14a-B2-14] フォノンエンジニアリングの電子機器実装への応用

[14a-B2-15] まとめ

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