[11a-B2-1~10] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

△ [11a-B2-8] 新規ポリマー型高感度電子線ネガレジストの露光特性

〇高山 智寛¹、池田 紳悟¹、岸村 由紀子¹、浅田 裕法¹、津川 直樹²、赤鹿 洋介²、星野 亮一³ (1.山口大学, 2.ナード研究所, 3.グルーオンラボ)

キーワード：電子線レジスト