[11a-B2-1~10] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

△ [11a-B2-9] PMMAレジストの現像過程における溶解挙動

〇誉田 明宏¹、山本 洋揮¹、光安 將騎¹、古澤 孝弘¹、吉武 秀介² (1.阪大産研, 2.NuFlare Technology)

キーワード：EUV、リソグラフィ、レジスト