[11p-B3-1~9] 最先端の電子・集束イオンビーム装置技術

[11p-B3-4] マスク用電子ビーム描画装置の最新動向

〇竹越 秀和¹、上久保 貴司¹、吉武 俊介¹、斎藤 賢一¹ (1.ニューフレアテクノロジー)

キーワード：マスク用電子ビーム描画装置、ニューフレアテクノロジー、EBM-9000