2015年第62回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » 斜め蒸着法,GLAD,STF等,シャドウイングによるナノ形態の制御と評価

[11p-D9-1~7] 斜め蒸着法,GLAD,STF等,シャドウイングによるナノ形態の制御と評価

2015年3月11日(水) 13:15 〜 17:00 D9 (16-304)

14:30 〜 14:45

[11p-D9-3] 雰囲気ガスによる表面拡散の制御法の開発と明瞭なAgナノコラム形成への応用

〇伊東 孝将1、中嶋 薫1、木村 健二1、鈴木 基史1 (1.京大院工)

キーワード:斜め蒸着、表面拡散、雰囲気ガス