PDF ダウンロード スケジュール 5 いいね! 0 16:00 〜 18:00 [11p-P6-9] 選択的 Si 酸化を用いた c-Si/a-Si ヘテロ接合界面(1 in)における漏れ電流抑制技術の開発 〇太田 昂貴1、三和 寛之1、西田 哲1、牟田 浩司1、栗林 志頭眞1 (1.岐大院工) キーワード:パッシベーション