Fabrication of SiC Membrane High Contrast Grating Using Nanoimprint Lithography

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.13 半導体光デバイス

2015年3月12日(木) 09:00 〜 13:00 A17 (6A-207)

11:45 〜 12:00

〇(D)YingYu Lai^1,², Shunya Inoue¹, Tien-Chang Lu², Shing-Chung Wang², Fumio Koyama¹ (1.TIT, 2.NCTU)

キーワード：High contrast grating,SiC