2015年第62回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション

[12a-A27-1~9] 13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション

2015年3月12日(木) 10:00 〜 12:30 A27 (6A-202)

11:00 〜 11:15

[12a-A27-5] 純水中極微量金属によるウエーハ汚染

〇中津 正人1 (1.三重富士通セミコンダクター)

キーワード:純水、金属汚染、シリコンウエーハ