[12p-A16-1~13] 3.15 シリコンフォトニクス

[12p-A16-2] 残留歪とマイクロ構造を用いたSOI上Ge成長膜の２軸伸張歪の増強

〇石田 悟己¹、加古 敏^{1, 2}、小田 克矢³、井戸 立身³、岩本 敏^{1, 2}、荒川 泰彦^{1, 2} (1.東大生研・先端研, 2.東大ナノ量子機構, 3.日立中研)

キーワード：ゲルマニウム、２軸伸張歪、フォトルミネッセンス