[12p-A29-1~11] 未来を担う若手科学者の在り方　～集積化技術の新たな価値創造を目指して～

[12p-A29-10] スパッタ堆積MoS₂膜の下地平坦化による電気特性向上

〇大橋 匠¹、山口 晋平¹、松浦 賢太朗¹、須田 耕平²、石原 聖也²、澤本 直美²、角嶋 邦之¹、杉井 信之¹、西山 彰¹、片岡 好則¹、名取 研二¹、筒井 一生¹、岩井 洋¹、小椋 厚志²、若林 整¹ (1.東工大, 2.明治大)

キーワード：二硫化モリブデン (MoS2)、スパッタリング、薄膜トランジスタ