[12p-B4-1~10] 進化するパワー半導体・・・シリコンからワイドバンドギャップへ

[12p-B4-8] イオン注入技術の適用の現状

〇加地 徹¹ (1.豊田中研)

キーワード：イオン注入、活性化、パワーデバイス