[12p-D13-1~14] 6.5 表面物理・真空

[12p-D13-12] SiO₂/Si(001)界面酸化プロセスにおける熱歪みの寄与

〇小川 修一¹、唐 佳芸¹、吉越 章隆²、石塚 眞治³、寺岡 有殿²、高桑 雄二¹ (1.東北大, 2.原子力機構, 3.秋田高専)

キーワード：熱酸化プロセス、統合Si酸化反応モデル、RHEED-AES