2015年第62回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

13 半導体 » 13.2 探索的材料物性・基礎物性

[12p-P8-1~14] 13.2 探索的材料物性・基礎物性

2015年3月12日(木) 13:30 〜 15:30 P8 (総合体育館)

13:30 〜 15:30

[12p-P8-9] イオンビームスパッタ蒸着法を用いたEr2O3膜の作製における照射イオン種の効果

〇藤田 将弥1, 2、山口 憲司2、朝岡 秀人2、毛 偉3、近田 拓未4、鈴木 晶大3、寺井 隆幸3 (1.茨城大理, 2.原子力機構, 3.東京大, 4.静岡大)

キーワード:スパッタエッチング、イオン照射、薄膜