[13a-A11-1~11] 3.7 レーザープロセシング

[13a-A11-7] F₂レーザーを用いたパルスレーザー堆積法によるポーラスSiO₂膜の形成

〇谷山 大地¹、池上 浩¹、大久保 智幸¹、中村 大輔¹、岡田 龍雄¹ (1.九大シス情)

キーワード：低誘電率絶縁膜、パルスレーザー堆積法、F2レーザー