2015年第62回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術

[13a-A24-1~13] 13.3 絶縁膜技術

2015年3月13日(金) 09:00 〜 12:30 A24 (6A-217)

09:00 〜 09:15

[13a-A24-1] Passivation of silicon surfaces by heat treatment in liquid water at 110oC

〇Tomohiko Nakamura1, Toshiyuki Sameshima1, Masahiko Hasumi1, Tomohisa Mizuno2 (1.TUAT, 2.Kanagawa Univ.)

キーワード:silicon,passivation,MIS type solar cell