2015年第62回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術

[13a-A24-1~13] 13.3 絶縁膜技術

2015年3月13日(金) 09:00 〜 12:30 A24 (6A-217)

09:15 〜 09:30

[13a-A24-2] 高圧水蒸気中における陽極酸化法により成膜したSiO膜の特性評価

〇(M1C)手原 大貴1、尾和瀬 智成1、呉 研1、高橋 芳浩1 (1.日大理工)

キーワード:高圧水蒸気、陽極酸化、低温成長