2015年第62回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.2 探索的材料物性・基礎物性

[13a-A25-1~13] 13.2 探索的材料物性・基礎物性

2015年3月13日(金) 09:00 〜 12:30 A25 (6A-218)

12:15 〜 12:30

[13a-A25-13] キセノンイオンを注入したシリコンのアニールによる構造変化 II

〇北川 淳嗣1、藤田 詩織1、羽渕 仁恵1、飯田 民夫1、大橋 史隆2、伴 隆幸2、久米 徹二2、野々村 修一2 (1.岐阜高専, 2.岐大工)

キーワード:シリコンクラスレート、キセノンイオン注入