PDF ダウンロード スケジュール 3 いいね! 0 12:15 〜 12:30 [13a-A25-13] キセノンイオンを注入したシリコンのアニールによる構造変化 II 〇北川 淳嗣1、藤田 詩織1、羽渕 仁恵1、飯田 民夫1、大橋 史隆2、伴 隆幸2、久米 徹二2、野々村 修一2 (1.岐阜高専, 2.岐大工) キーワード:シリコンクラスレート、キセノンイオン注入