[13a-P6-1~9] 3.8 光計測技術・機器

[13a-P6-7] 可視光広帯域光源を用いたμm-OCTの半導体微細加工プロセスへの応用

〇西 剛史¹、尾崎 信彦¹、大里 啓考²、渡辺 英一郎²、池田 直樹²、杉本 喜正² (1.和歌山大学シス工, 2.物質・材料研究機構)

キーワード：光干渉断層計、半導体微細加工、白色光源