2015年第62回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.3 III-V族エピタキシャル結晶

[13p-D4-1~11] 15.3 III-V族エピタキシャル結晶

2015年3月13日(金) 16:15 〜 19:00 D4 (16-204)

16:45 〜 17:00

[13p-D4-3] GaAs中のエピタキシャル二次元窒素膜におけるアニール効果

〇原田 幸弘1、小川 泰弘1、馬場 健1、海津 利行1、喜多 隆1 (1.神戸大院工)

キーワード:二次元原子膜、窒素デルタドーピング