2015年第62回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

13 半導体 » 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

[13p-P17-1~24] 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2015年3月13日(金) 16:30 〜 18:30 P17 (総合体育館)

16:30 〜 18:30

[13p-P17-1] 高正孔濃度GaAsSbコンタクト層を有するGaAsSb/InGaAsSbベースDHBTのMOCVD成長

〇星 拓也1、柏尾 典秀2、杉山 弘樹1、横山 春喜1、栗島 賢二1、井田 実1、松崎 秀昭1 (1.NTT先端集積デバイス研, 2.NTTデバイスイノベーションセンタ)

キーワード:ヘテロ接合バイポーラトランジスタ、インジウムガリウムヒ素アンチモン、有機金属化学気相堆積