2015年第62回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

13 半導体 » 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

[13p-P17-1~24] 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2015年3月13日(金) 16:30 〜 18:30 P17 (総合体育館)

16:30 〜 18:30

[13p-P17-2] InAs-PHEMT特性に及ぼす正孔蓄積の効果

〇小松 竜大1、西尾 結1、佐藤 万里衣1、佐藤 宇人1、杉山 駿輔1、高梨 良文1 (1.東理大)

キーワード:ヘムト、インジウムヒソ