2015年第62回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

13 半導体 » 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

[13p-P17-1~24] 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2015年3月13日(金) 16:30 〜 18:30 P17 (総合体育館)

16:30 〜 18:30

[13p-P17-6] GaN/AlN共鳴トンネルダイオードで生じる双安定性の劣化メカニズム

〇永瀬 成範1、高橋 言緒1、清水 三聡1 (1.産総研)

キーワード:共鳴トンネルダイオード、窒化物半導体、有機金属気相成長法