[14a-A24-1~12] 13.3 絶縁膜技術

[14a-A24-6] ALDとECRプラズマ酸化による酸化膜固定電荷密度の制御

〇永冨 雄太¹、長岡 裕一¹、田中 慎太郎¹、山本 圭介²、王 冬¹、中島 寛² (1.九大総理工, 2.九大産学連携センター)

キーワード：原子層堆積、ECRプラズマ酸化、酸化膜固定電荷