[14a-A28-1~10] 8.1 プラズマ生成・制御

[14a-A28-10] プラズマプロセス中の基板温度制御のための熱流束モデルの解析

〇(DC)堤 隆嘉¹、福永 祐介¹、石川 健治¹、竹田 圭吾¹、近藤 博基¹、太田 貴之²、伊藤 昌文²、関根 誠¹、堀 勝¹ (1.名大院工, 2.名城大理工)

キーワード：基板温度、熱流速、プラズマ