2015年第62回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[14a-A29-1~11] 13.4 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

2015年3月14日(土) 09:00 〜 12:00 A29 (6A-204)

09:00 〜 09:15

[14a-A29-1] 光エッチングによる均一層厚を有する極薄SOIの形成

〇宮田 優希1、中向 保徳1、カッシア チエミ アゼヴェド1、押鐘 寧1、川合 健太郎1、有馬 健太1、森田 瑞穂1 (1.阪大院工)

キーワード:SOI、エッチング