2015年第62回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.6 イオンビーム一般

[14p-C1-1~8] 7.6 イオンビーム一般

2015年3月14日(土) 13:00 〜 15:00 C1 (6C-104)

13:00 〜 13:15

[14p-C1-1] シリコン酸化膜へのゲルマニウム負イオン注入と熱処理で形成したGeナノ粒子の酸化状態評価

〇辻 博司1、加藤 幹雄2、佐々木 智一2、野村 英一3、後藤 康仁1 (1.京大院工, 2.東芝ナノアナリシス, 3.開発受託21)

キーワード:ナノ粒子、酸化状態、コアーシェル構造