2015年第62回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[14p-D10-1~7] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2015年3月14日(土) 13:00 〜 14:45 D10 (16-305)

14:15 〜 14:30

[14p-D10-6] NiOを用いたReRAMのセミフォーミング後におけるコンダクタンスの温度依存性

〇篠倉 弘樹1、西 佑介1、木本 恒暢1 (1.京大院工)

キーワード:抵抗変化型メモリ、酸化ニッケル、量子ポイントコンタクト