Lun Xu

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発表者・著者、共著者

2016年9月15日(木) 13:15 〜 17:45 B9 (展示ホール内)

一般セッション(口頭講演)
| 13 半導体
| 13.3 絶縁膜技術

[15p-B9-1~17] 13.3 絶縁膜技術

13:15 〜 13:30

▲ [15p-B9-1] [Young Scientist Presentation Award Speech] Effects of nitrogen bonding on para-/ferroelectric transition of HfO₂

〇Lun Xu¹、Tomonori Nishimura¹、Shigehisa Shibayama¹、Takeaki Yajima¹、Shinji Migita²、Akira Toriumi¹ (1.The Univ. of Tokyo、2.AIST)