09:30 〜 11:30 [16a-P5-18] 高温N2雰囲気アニール処理をしたAlNテンプレート上へのAlN及びAlGaN(Al>0.5)の再成長 〇三嶋 晃1、池永 和正1、矢野 良樹1、田渕 俊也1、松本 功1、三宅 秀人2 (1.大陽日酸(株)、2.三重大)