一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング
2016年9月13日(火) 09:30 〜 12:00 C31 (日航3階孔雀AB)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
09:30 〜 09:45
〇欠端 雅之1、高橋 俊彦2、屋代 英彦1、大矢根 綾子3、伊藤 敦夫4、西川 正2、鳥塚 健二1 (1.産総研 電子光技術、2.東京電機大学、3.産総研 ナノ材料、4.産総研 健康工学)
スケジュール
いいね！
)
09:45 〜 10:00
〇田口 将大1、谷 峻太郎1、小林 洋平1 (1.東大物性研)
スケジュール
いいね！
)
10:00 〜 10:15
〇白石 正彦1、合谷 賢治2、窪寺 昌一1、渡辺 一弘1 (1.創価大理工、2.産総研)
スケジュール
いいね！
)
10:15 〜 10:30
〇知念 直樹1、白石 正彦1、合谷 賢治2、関 篤1、渡辺 一弘1、窪寺 昌一1 (1.創価大理工、2.産総研)
スケジュール
いいね！
)
10:45 〜 11:15
〇谷 峻太郎1、小林 洋平1 (1.東大物性研)
スケジュール
いいね！
)
11:15 〜 11:30
川口 喜三1、大村 英樹1、〇佐藤 正健1 (1.産総研)
スケジュール
いいね！
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11:30 〜 11:45
〇乙部 智仁1 (1.量研機構)
スケジュール
いいね！
)
11:45 〜 12:00
〇萩原 宏規1、飯野 敬矩1、洪 振益1、前野 貴則1、岡野 和宣1、細川 陽一郎1 (1.奈良先端大物質)
スケジュール
いいね！
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