一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.9 テラヘルツ全般
2016年9月14日(水) 09:00 〜 12:00 B2 (展示ホール内)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
09:00 〜 09:15
〇佐野 和貴1、矢野 貴義1、山崎 智仁1、宮本 克彦1,2、尾松 孝茂1,2 (1.千葉大院融合、2.千葉大分子キラリティー研)
スケジュール
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09:15 〜 09:30
〇矢野 貴義1、内田 裕久2、佐野 和貴1、山崎 智仁1、宮本 克彦1,3、尾松 孝茂1,3 (1.千葉大院融合、2.アークレイ、3.千葉大分子キラリティー研)
スケジュール
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09:30 〜 09:45
〇(M2)木村 優基1、多田 純1、水津 光司1、諸橋 功2、小川 洋2、中島 慎也2、関根 徳彦2、寶迫 巌2 (1.千葉工大工、2.NICT)
スケジュール
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09:45 〜 10:00
後藤 大輝1、加藤 博之1、安本 拓朗1、北原 英明1、山本 晃司1、古屋 岳1、エスタシオ エルマー2、バクノフ マイケル3、〇谷 正彦1 (1.福井大遠赤セ、2.フィリピン大、3.ニジニノブゴロド大)
スケジュール
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10:00 〜 10:15
〇(D)小口 研一1、岡野 真人1、渡邉 紳一1 (1.慶大理工)
スケジュール
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10:15 〜 10:30
〇向井 佑1、石井 順久2、金島 圭佑2、内田 裕久3、板谷 治郎2、田中 耕一郎4 (1.京大iCeMS、2.東大物性研、3.アークレイ(株)、4.京大理)
スケジュール
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10:45 〜 11:00
〇松井 龍之介1,2、大村 和輝1 (1.三重大院工、2.三重大極限ナノエレ)
スケジュール
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11:00 〜 11:15
〇(M2)原田 寛史1、高野 恵介1、吉村 政志1、中嶋 誠1 (1.阪大レーザー研)
スケジュール
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11:15 〜 11:30
〇(M2)花井 研一郎1、原田 寛史1、高野 恵介1、吉村 政志1、中嶋 誠1 (1.阪大レーザー研)
スケジュール
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11:30 〜 11:45
〇(M2)三代 裕太1、三橋 雄大1、藤村 拓也1、菜嶋 茂喜1、近藤 孝志2、神波 誠治2、鈴木 哲仁3、小川 雄一3 (1.大市大院工、2.株式会社村田製作所、3.京大院農)
スケジュール
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11:45 〜 12:00
〇(M1)植松 成将1 (1.東大工)
スケジュール
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