2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

17 ナノカーボン » 17.2 グラフェン

[13a-A32-1~9] 17.2 グラフェン

2016年9月13日(火) 09:30 〜 11:45 A32 (302B)

末光 眞希(東北大)

11:30 〜 11:45

[13a-A32-9] 新規窒素含有芳香族分子による酸化グラフェンの修飾

田原 大輔1、小幡 誠司2、時丸 祐輝3、伊藤 慎庫3、野崎 京子3、斉木 幸一朗1,2 (1.東大院理、2.東大新領域、3.東大院工)

キーワード:酸化グラフェン

グラフェンなどのハニカム構造をもつ炭素材料に窒素を導入すると, 触媒活性や仕事関数などの物性が変化するが, こうした物性の変調には窒素の導入位置が大きく影響する。しかし、窒素の導入位置を任意に制御する方法はまだ確立されていない。本研究では, 触媒活性が高いジグザグ-1端に窒素をもつ新規の芳香族分子を用いて酸化グラフェンを修飾することで, 窒素源である分子の構造を保持した炭素材料の作製を行った。