2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

10 スピントロニクス・マグネティクス » 10.5 磁場応用

[13a-A34-1~4] 10.5 磁場応用

2016年9月13日(火) 10:45 〜 12:15 A34 (301B)

廣田 憲之(物材機構)

10:45 〜 11:00

[13a-A34-1] 磁気電解エッチングによるキラル界面形成への特異吸着の効果

茂木 巖1、青柿 良一2、高橋 弘紀1 (1.東北大金研、2.職業大)

キーワード:磁気電気化学、キラリティ

我々はこれまで,銅の磁気電析や磁気電解エッチングが界面にキラリティを誘発することを報告してきた .この磁気電気化学キラリティの発現は,マイクロMHD渦流にマクロな垂直MHD対流が作用し,マイクロMHD渦流の対称性が破れることにより起こる.以前,Cl-を添加した銅磁気電析を試み,Cl-の特異吸着がキラル界面形成に著しい影響を及ぼすことを報告した. 今回は,銅の磁気電解エッチングにおけるキラル界面形成にCl-添加がどのような影響を及ぼすかを調べてみた.