[13a-D62-1~11] 6.4 Thin films and New materials

[13a-D62-11] Synthesis and characterization of rutile-ReO₂ epitaxial thin films

〇Shunsuke Shibata¹, Yasushi Hirose^1,2, Kei Shigematsu², Shoichiro Nakao², Akira Chikamatsu¹, Eiji Ikenaga³, Tetsuya Hasegawa^1,2 (1.Univ. of Tokyo, 2.KAST, 3.SPring-8)

Keywords:novel thin film material, rutile structure

本研究では、PLD法によるルチル型ReO₂エピタキシャル薄膜の低温での成長方法を開発し、合成した薄膜の結晶構造及び電気輸送特性を評価したので報告する。ターゲットにはRe金属を使用し、酸化剤としてN₂Oを用いることで、TiO₂(001)基板上にReO₂をエピタキシャル成長させることに成功した。XRD測定の結果、膜厚の減少に伴い、歪んだルチル型構造(単斜晶)からルチル型構造(正方晶)へと相転移することを確認した。また、Reカチオンの価数や、電気輸送特性についても評価を行った。