2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.5 デバイス/集積化技術

[13p-B13-1~12] 13.5 デバイス/集積化技術

2016年9月13日(火) 13:45 〜 17:00 B13 (展示控室5A-5B)

土屋 敏章(島根大)、小野 行徳(静岡大)

15:00 〜 15:15

[13p-B13-6] FinFET寄生抵抗ばらつきの解析:エクステンションドーピング条件の影響

松川 貴1、森 貴洋1、森田 行則1、大塚 慎太郎1、柳 永勛1、大内 真一1、更田 裕司1、右田 真司1、昌原 明植1 (1.産総研)

キーワード:FinFET、寄生抵抗、イオン注入

本稿では、多数のFinFETの寄生抵抗ばらつきを抽出し、エクステンションへのドーピング条件(異なるfin厚さ、注入イオン種)の影響を調査した結果を報告する。オン抵抗とゲートオーバードライブの逆数の関係より、個々のFinFETの寄生抵抗を抽出する。その結果、fin厚さを厚くすることで、また注入イオン種をAsからPにかえることで、ばらつきが抑えられることが分かった。