2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[13p-D62-1~14] 6.4 薄膜新材料

2016年9月13日(火) 13:45 〜 17:30 D62 (万代島ビル6階D2)

土屋 哲男(産総研)、西川 雅美(長岡技科大)

17:15 〜 17:30

[13p-D62-14] Zr-EDTA錯体原料を用いたキレートフレーム法によるZrO2膜の作製

〇(M1)池田 裕1、中村 淳2,1、小松 啓志1、齋藤 秀俊1 (1.長岡技科大、2.中部キレスト)

キーワード:酸化ジルコニウム、金属EDTA錯体、キレートフレーム法

本研究では,ZrO2の厚膜を安価かつ高速に製膜する方法としてキレートフレーム法を提案する.先行研究ではエルビア(Er2O3)やイットリア(Y2O3)などの金属酸化物の堆積に成功している.その結果,キレートフレーム法を用いて,Zr-EDTA金属錯体は水酸素炎中で完全に分解し,ZrO2膜をSUS304基板上に作製できた.