[13p-D62-1~14] 6.4 薄膜新材料

[13p-D62-4] 反応性スパッタリング法によるFe_3-xO₄ (001)成膜時のRHEED振動の観察

小島 泰介¹、田結荘 健¹、ソニア シャーミン¹、〇柳原 英人¹ (1.筑波大数理)

キーワード：反応性スパッタリング法、反射高速電子線回折、層状成長

反応性スパッタリング法をもちいることで、平坦性が高く、バルクの磁気特性に近い Fe_3-xO₄ (001) (x=0, 0.33) の成膜が可能である。今回Fe_3-xO₄ (001) 成膜中の反射高速電子線回折(RHEED)の強度変化を測定することで、反応性スパッタリング法における薄膜成長の過程を調べたところ、MBEやPLDで知られている１分子層厚に対応したRHEED振動を観測したので報告する。