[13p-P4-1~4] 7.5 Ion beams

[13p-P4-3] Study of direct nano patterning on gold and silicon surfaces with helium ion microscope

〇Etsuo Maeda¹, Reo Kometani¹, Tomohiko Iijima², Shinji Migita², Shinichi Ogawa² (1.The Univ. of Tokyo, 2.AIST)

Keywords:Helium ion microscope

ヘリウムイオン顕微鏡（HIM）技術によるSiおよびAu表面における加工性能を評価したので報告する．Dose量を1.0×10¹⁹ ions/cm²とすることで，Si基板のブリスタリングを抑制することが可能であった。また、SiO₂を緩衝層とすることで、Auの良好な加工結果を得た。具体的には3 nm幅の設計値に対して、加工幅が2.7 nmとなった。