[14a-B10-1~12] 12.6 ナノバイオテクノロジー

△ [14a-B10-2] 液槽外の静電気によるソリッドナノポアメンブレンの絶縁破壊

〇松井 一真¹、後藤 佑介¹、柳 至¹、柳川 善光¹、石毛 悠¹、武田 健一¹ (1.日立研開)

キーワード：ナノポア、絶縁破壊、静電気

ナノポアメンブレンを電解質溶液に浸漬する工程において，メンブレンの絶縁破壊をもたらす電位差発生原因の解明を行い，主要因はフローセル表面に発生した静電気であることを明らかにした。静電気が引き起こすフローセル表面電位がフローセルとメンブレンの容量性カップリング比に従ってメンブレンに電位差を与えることを確認し，さらにフローセル表面へ静電気防止剤を塗装することで電位差を縮小し絶縁破壊発生率を低減した。